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立式高溫真空燒結爐系統(tǒng)結構、功用。根據(jù)系統(tǒng)要求及操作工藝規(guī)劃了根據(jù)分布式、模塊化DCS 控制解決計劃。具體論說了控制系統(tǒng)的硬件配置、軟件規(guī)劃，完成了出產設備工藝運行工況實時監(jiān)測，以及被控量的在線實時顯示。該控制計劃具有硬件簡略，組態(tài)活絡的特征，適用于中小型控制系統(tǒng)。

跟著科學技術的不斷發(fā)展，我國工業(yè)、國防、航天等范疇都取得了長足的進步，這其間真空裝備制作業(yè)不管是設備水平、制作工藝、控制技術也有了很大的提高。加之科學技術的不斷提高也促進材料范疇的不斷發(fā)展，在航空、航天、軍工、動力、化工等范疇一些特種材料、新材料得到了廣泛的使用。而真空熱處理技術在這些特種材料、新材料的出產制作過程起著越來越重要的作用。

高真空燒結爐針對粉末冶金真空燒結爐時變性、大滯后、非線性的特征，選用PID 控制作用不抱負，選用了迷糊控制算法。建立了PID 控制和迷糊控制仿真模型，進行了比照，結果表明，選用迷糊控制后，系統(tǒng)響應速度很快，達到穩(wěn)態(tài)時間僅為3.2 s，不存在超調量，穩(wěn)態(tài)差錯為1.2℃，穩(wěn)態(tài)精度很高；系統(tǒng)仿真輸出與給定輸入波形較挨近，系統(tǒng)調節(jié)時間短，很快進入安穩(wěn)狀況，且振蕩很細微。迷糊控制優(yōu)于傳統(tǒng)PID 控制，能夠滿足粉末冶金真空燒結爐溫度的控制要求。

粉末冶金真空燒結爐是一個時變性、大滯后、非線性加熱系統(tǒng)，因為其自身物理、化學機理的凌亂性，影響要素眾多，難以獲得精確數(shù)學模型。當參數(shù)改動較大、控制精度要求較高時，一般PID 控制作用很難令人滿足。迷糊控制不需求系統(tǒng)給出精確的數(shù)學模型，根據(jù)人的實踐經驗擬定控制規(guī)則，做出控制決策表，系統(tǒng)根據(jù)決策表進行控制，特別合適燒結爐這類凌亂的工業(yè)出產目標。燒結過程中影響制品質量的主要要素是燒結溫度和燒結時間，特別對溫度的要求十分苛刻，最大溫差一般不允許逾越給定值的±3℃~5℃，因而有必要加以嚴格控制。

真空爐石墨棒運用事項：

1.選用發(fā)熱部紅熱均勻性好的石墨棒。棒的紅熱均勻性差會影響爐溫均勻及縮短棒的運用壽數(shù)。在運用過程中，棒的紅熱均勻性會逐漸變差，嚴峻時構成斷棒。

2.石墨棒跟著運用溫度越高壽數(shù)為越短，尤其在棒的表面溫度逾越1500°C以后，氧化速度加快，壽數(shù)縮短，運用中留意盡量不要讓石墨棒表面溫度過高。

3.石墨棒在空氣中被加熱后，表面構成細密的氧化硅膜，變成抗氧化的保護膜，起到延長壽數(shù)的作用。間歇運用，跟著窯爐溫度的升降改動，會導致棒表面的保護膜破裂，保護作用削弱，加快棒的電阻值變大。

為保證窯爐溫度安穩(wěn)及滿足快速升溫的需求，配套的電氣控制系統(tǒng)應該留有足夠的電壓調整余量——即：新棒時，在較低的電壓下就能滿足窯爐規(guī)劃及運用功率；跟著運用時間的接連，棒的阻值變大，此刻需求相應地提高運用電壓，來滿足窯爐規(guī)劃及運用功率。

電壓余量數(shù)值：石墨棒運用后期的電壓一般是新棒運用電壓的1.5--1.7倍。根據(jù)調壓辦法及接線辦法的不同，后期電壓的上限一般以220V或380V為核算值。

石墨棒功率的調整辦法，建議經過調整電壓的辦法來調整功率。引薦石墨棒的調壓辦法挑選可控硅調壓或調壓器調壓。一般不選用經過改動周波數(shù)的調功器的辦法來調整。

4.一般情況下，石墨棒表面負荷密度是由爐內溫度和石墨棒表面溫度的聯(lián)系求得，建議運用石墨棒最大表面負荷密度1/2-1/3數(shù)值的功率。給石墨棒加的電流量越大，石墨棒的表面溫度越高。建議運用盡量小的表面負荷密度（功率）。

請留意石墨棒冷端記載的數(shù)值為空氣中1050℃+-50℃范圍測得的電流、電壓，與實踐運用不一定相符。

5.接連運用石墨棒時，希望緩速增加電壓以保持長壽數(shù)。

6.石墨棒盡可能并聯(lián)。假設石墨棒阻值不同，串聯(lián)時電阻高的石墨棒負荷會合，導致某一個石墨棒電阻快速增加，壽數(shù)變短。

一起需加強電阻值的配組，即同一組棒的電阻值盡量挨近。一般地，并聯(lián)時同組棒電阻值差錯在10%—15%以內，串聯(lián)時同組棒電阻值差錯在5%—10%以內。爐溫越高，要求的阻值差錯也應越小。